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微型液體氣化儀基本參數產品介紹
微型液體氣化儀基本參數產品介紹

產品概述LVD-F1是一款適用于實驗室中CVD或DLCVD實驗的導入液體的一款經濟高效的液體蒸發(fā)輸送系統。其液體流量是通過一個數字液體泵來控制,最大流量為10ml/min。液體被蠕動泵導入到混氣系統后,被系統里的加熱裝置加熱成蒸汽,然后隨導入的氣體被帶入到爐管中。LVD-F1能夠導出多種液體,比如ETOH,SnCl4,TiCl4r,SiHCl3,和Zn(C2H5)2,還有多種有機物混合。對于研究用...

2021-06-18
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  • 小型蒸鍍儀標準操作步驟

    小型蒸鍍儀標準操作步驟小型蒸鍍儀是一款小型真空鍍膜儀,特別適合蒸鍍一些輕金屬,如Al.Mg,和Li等。同時也可對樣品進行鍍碳處理,zui大可處理的樣品直徑為50mm。小型蒸鍍儀的使用可分為4步,即蒸鍍前準備工作、蒸鍍儀的預熱、蒸鍍薄膜以及關機.1、蒸鍍前準備工作:1.1)開充氣閥,對鐘罩內充氣,再升鐘罩;1.2)根據鐘罩內是否清潔,先使用酒精清洗鐘罩內的零部件;1.3)安裝鉬舟,并將鋁絲條放入鉬舟中,并將所要沉積的襯底粘附于鋁板上;1.4)降鐘罩,在鐘罩下降的同時要觀察是否存...

    202111-8
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  • 雙靶磁控濺射儀的操作規(guī)范

    雙靶磁控濺射儀是一款新型的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。雙靶磁控濺射儀操作規(guī)范:雙靶磁控濺射儀開機1、打開冷水機。設定溫度:冬天10-15℃,夏天5℃2、打開放氣閥破真空,然后關閉放氣閥(之后整個工作過程務必保證放氣閥均是關閉狀態(tài)。本機閥門均是逆時針打開,順時針關閉)3、...

    202111-4
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  • 闡述等離子鍍膜設備的使用所具備的優(yōu)勢

    等離子鍍膜設備是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統,系統中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗幫手。等離子鍍膜設備優(yōu)勢:1、AF噴涂設備采用原裝德國進口納米噴頭,噴頭采用高低壓轉換霧化設計,使液態(tài)分子極精細,且不影響藥水效果;2、鋨存儲器可拆卸:具有密封式結構,可冷凍保存;3、理論設計產能3000片-4000片/小時;4、噴嘴運...

    202111-3
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  • 小型真空管式爐充工作氣體的方法

    小型真空管式爐充工作氣體的方法:使用氫氣作為工作氣體時1、接通氫氣氣路,對各接頭處用肥皂水檢漏,確認不漏氣。2、確認各閥門處于關閉狀態(tài)。3.逆時針旋轉旋鈕開氫氣瓶主閥,順時針旋動旋鈕,緩慢打開出口減壓閥,使出口氣壓在0.1MPa。4、接通機械泵電源,打開管式爐出口閥和機械泵氣路上的兩個閥門,抽5分鐘。5.關閉機械泵氣路上的兩個閥門,關閉管式爐出口閥門,關機械泵。6.逆順時針打開上氣路控制閥,使箭頭指向“開”位置。7.逆順時針調節(jié)流量計旋鈕,使示數在20ml/min。8、逆時針...

    202111-2
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  • 如何選擇切割機?

    如何選擇切割機?1、切割機分類材料檢測前的初加工往往都需要用到切割機,而我們公司的切割機種類很多,由于客戶對我司產品不熟悉,造成客戶在選擇設備時的思緒混亂,所以本文是以客戶角度,根據試樣材質、尺寸、加工要求來選擇切割機。備注:1、紅色加粗字體標注的方向為切割方向(正向或負向);2、金剛石線切割機的切割線直徑分別為0.14、0.25、0.35、0.42mm;3、外圓切割機常用的切割片有燒結金剛石、電鍍金剛石、碳化硅、剛玉等。2、具體步驟a、可根據式樣尺寸對照上表選擇設備要保證式...

    202111-1
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  • 小型真空管式爐的優(yōu)缺點

    小型真空管式爐均系周期作業(yè)式。供實驗室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用。采用先進技術研制開發(fā)的高性能高節(jié)能的新型電爐,有單管、雙管、臥式、可開啟式、立式、單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等多種管式爐型。具有安全可靠、操作簡單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區(qū)多、可選配氣氛、抽真空爐型等。真空管式爐優(yōu)點之多,缺點也有,不過相對于其優(yōu)點繁多,缺點似乎沒那么重要了。小型真空管式爐優(yōu)點:1.工藝成熟;2.爐型...

    202110-27
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  • 經典實驗-陶瓷/玻璃-關于球磨機中存在大顆粒無法去除的初步探究

    經典實驗-陶瓷/玻璃-關于球磨機中存在大顆粒無法去除的初步探究現象:1.在我們*網站及微信后臺留言及展會交流中,經常會碰到反應球磨中有大顆粒,球磨時間如何調整也無法去除的案例??凭眉夹g實驗室也多次碰到此類問題,先把探究的實驗結果匯總如下。主要原因:進料尺寸過大。每個球磨機其實有一個重要參數就是進料粒度,進料粒度過大,材料較硬就會有大顆粒無法球磨下去。例如以下案例:以下球磨的樣品:剛玉采用的設備:科晶。。。。。。。球磨機進料顆粒過大,延長球磨時間也無法去除粉體中的大顆粒。球...

    202110-26
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  • 開啟式管式爐安裝細節(jié)

    開啟式管式爐是管試爐的一種,集控制系統與爐膛為一體。石英玻璃管橫穿于爐體中間作為的爐膛,爐管兩端用不銹鋼法蘭密封,工件式樣在管中加熱,加熱元件與爐管平行,均勻的分布在爐管外,有效的保證了溫場的均勻性。上蓋開啟式結構方便客戶對特殊材料的裝載,燒制和觀察,并有助于快速升降溫。開啟式管式爐分單溫區(qū),雙溫區(qū),三溫區(qū),四溫區(qū),五溫區(qū)。開啟式管式爐的安裝細節(jié)1.本系列電爐不需特殊安裝,室內平整的地面或工作臺上均可安放。但配套的控制器應避免震動,放置位置與實驗電爐不宜太近,防止過熱而影響控...

    202110-25
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  • 小型真空管式爐的安裝步驟

    小型真空管式爐外型美觀大方,結構為保溫層兩半開啟式,集控制系統與爐膛為一體。它是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬,非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的理想設備。小型真空管式爐的安裝步驟1、先將外壓環(huán)從石英管端裝入,再將硅橡膠O型圈套入,再將內壓環(huán)套入,接著將第二個硅橡膠O型圈套入;撥動兩硅橡膠圈到合適位置,再將另外一個外壓環(huán)套上。(注意:此時應調整兩硅橡膠O型圈及內壓環(huán)的位置,使石英管端不要抵在外壓環(huán)端面,應預留2mm間隙)。...

    202110-22
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  • 高真空蒸發(fā)鍍膜儀鍍前預處理和鍍后處理

    高真空蒸發(fā)鍍膜儀工藝鍍前預處理和鍍后處理——江西穗誠科技科技有限公司除了為您提供我們的真空鍍膜設備外,還提供全面的、范圍廣泛的服務包和技術服務。借助于這些成熟的技術服務,您將能夠成功地使用您的高品質涂層技術并從中獲益。為您提供準確、出色的服務是我們公司理念中極為重要的組成部分。電鍍工藝過程一般包括電鍍前預處理、電鍍及鍍后處理。1、鍍前預處理:鍍前預處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面,為zui后獲得高質量鍍層作準備.要進行脫脂、去銹蝕、去灰塵等工作。步驟如下:*步;使表面粗...

    202110-21
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  • 影響行星式球磨機球磨效果的影響

    影響行星式球磨機球磨效果的影響1.摘要材料在超細狀態(tài)下表現出的*性能遍及電、磁、光、熱各個方面,超細粉末的應用,不僅引起電子學領域,而且也引起了催化、粉末冶金、醫(yī)學等領域的高度重視。但隨著物料粒度越來越細,顆粒的宏觀和微觀裂縫大大降低。對于極細顆粒,高接觸壓力會造成非彈性變形,顆粒越細則強度越高,需反復受壓才能在殘余應力場中積聚足夠的能量,達到最終破碎。行星式球磨機磨簡工作時既有公轉又有自轉,磨球在自轉、公轉等合力的作用下,離心加速度可達120g甚至更高,可以為物料的裂紋形成...

    202110-20
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  • 大面積金剛石自支撐膜機械拋光的優(yōu)化工藝研究

    大面積金剛石自支撐膜機械拋光的優(yōu)化工藝研究摘要:研究了一種用于拋光等離子體濺射CVD法制備的金剛石自支撐膜的高效安全的拋光工藝。試驗探索了轉盤轉速、金剛石粉顆粒尺寸、磨盤表面形狀對金剛石自支撐膜磨拋速率的影響。研究表明:帶槽盤對金剛石自支撐膜的粗研磨效果明顯,速率較高,平面盤對提高金剛石自支撐膜的表面粗糙度有利;不同顆粒的金剛石粉對應著各自合適的能充分利用其磨削能力的轉速,在這個轉速下,金剛石自支撐膜的磨拋速率在12μm/h左右。本文通過對新的工藝參數的探索,為金剛石自支撐膜...

    202110-19
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